인텔은 22일 앞으로 45나노미터 하이케이(Hi-k) 메탈 게이트 프로세서 전 제품을 시작으로 미래형 프로세서에 납을 전혀 사용하지 않을 것이라고 밝혔했다.
인텔은 22일 앞으로 45나노미터 하이케이(Hi-k) 메탈 게이트 프로세서 전 제품을 시작으로 미래형 프로세서에 납을 전혀 사용하지 않을 것이라고 밝혔했다.
인텔 45나노 하이케이 제품 군에는 차세대 인텔 코어 2 듀오, 코어2 쿼드, 제온 프로세서가 포함되며, 인텔의 45나노 하이케이 생산은 올해 하반기에 시작될 예정이다.
인텔 기술 및 제조 그룹의 부사장이자 조립 테스트 기술 개발 담당 이사인 나세르 그레이엘리(Nasser Grayeli)는 “인텔은 자사 제품의 무연화 및 전력 효율성 증진에서부터 대기 방출량 감소, 물과 원료 재활용에 이르기까지, 환경 보존을 위해 적극적인 조치를 취하고 있다.”라고 말했다.
보다 자세한 내용은 인텔 홈페이지(www.intel.com/go/responsibility)에서 확인할 수 있다.
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